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【資料圖】

今天簽署的諒解備忘錄旨在幫助使用半導體技術的產業(yè)了解先進半導體技術帶來的機遇，并獲得一個支持其創(chuàng)新的原型平臺。imec、ASML和其他合作伙伴之間的合作將使探索新型半導體應用成為可能，為芯片制造商和最終用戶開發(fā)可持續(xù)的、前沿的制造解決方案的可能性，以及與設備和材料生態(tài)系統(tǒng)合作開發(fā)先進的整體圖案流動。亞匯網從官方新聞稿中看到，雙方簽署的諒解備忘錄包括在比利時魯汶的IMEC試驗線安裝和服務ASML的全部先進光刻和測量設備，包括最新的0.55NAEUV（TWINSCANEXE:5200）、0.33NAEUV（TWINSCANNXE:3800）、DUV浸沒（TWINSCANNXT:2100i）、Yieldstar光學測量和HMI多光束等。這意味著該試點線將具有非常重要的價值，特別是在高級試點線上。官方表示，這項開創(chuàng)性的新高NA技術對于開發(fā)高性能、節(jié)能型芯片至關重要，例如下一代AI系統(tǒng)。它還能夠用于解決我們社會面臨的一些主要挑戰(zhàn)的創(chuàng)新深度技術成為可能，例如醫(yī)療保健、營養(yǎng)、移動/汽車、氣候變化和可持續(xù)能源等領域。為確保在2025年之后實現(xiàn)行業(yè)范圍內的廣泛訪問高級NAEUV光刻技術，需要進行大量的投資，并保持與歐洲相關的先進節(jié)點過程研發(fā)能力。據介紹，這一諒解備忘錄啟動了ASML和IMEC在高級NAEUV上的下一階段密集合作。第一階段的工藝研究正在使用第一臺高級NAEUV掃描儀(TWINSCANEXE:5000)在imec-ASML高級NA實驗室中執(zhí)行。IMEC和ASML將與所有領先的芯片制造商、材料和設備生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴合作，目的是為最快可能地大規(guī)模制造做好技術準備。在下一階段，這些活動將在比利時魯汶市IMEC試點線的下一代高級NAEUV掃描儀(TWINSCANEXE:5200)上加速進行?！癆SML正在向IMEC最先進的試點工廠做出實質性承諾，以支持歐洲的半導體研究和可持續(xù)創(chuàng)新。隨著人工智能(AI)迅速擴展到自然語言處理、計算機視覺和自主系統(tǒng)等領域，任務的復雜性不斷增加。因此，開發(fā)能夠滿足這些計算需求而不耗盡地球寶貴資源的芯片技術至關重要，”ASML總裁兼首席執(zhí)行官PeterWennink說。廣告聲明：本文含有的對外跳轉鏈接（包括不限于超鏈接、二維碼、口令等形式），用于傳遞更多信息，節(jié)省甄選時間，結果僅供參考。亞匯網所有文章均包含本聲明。